CJ係列磁控濺射真空鍍膜機的（de）磁控濺射工作原（yuán）理，所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引（yǐn）起物（wù）體表麵原子從母體中逸出（chū）的現象（xiàng）。早在1842年Grove在（zài）實驗（yàn）室中就發現了這種現象。磁控濺射（shè）靶采（cǎi）用靜止電磁場，磁場為曲線（xiàn）形，均勻電場和對數電場則分別用於平麵靶和同軸圓柱靶。電子在電場（chǎng）作用下，加速飛向基片的過程中（zhōng）與氬原子發生碰撞。若（ruò）電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離（lí）出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在電（diàn）場作用下，加速飛（fēi）向陰極（濺射靶）並以高能量（liàng）轟擊靶表麵，使靶材發生（shēng）濺射。 

廣泛應用於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀（yí）器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁（cí）磚等表麵裝飾性鍍膜及工模具的功能塗層，在鍍製超黑膜、純金裝（zhuāng）飾膜、導電膜（mó）等領域有優（yōu）勢。

1）、膜厚可控性和（hé）重複性好。能夠可靠的鍍（dù）製預定厚度的薄膜，並且濺射（shè）鍍膜可以在較大的表麵上（shàng）獲得厚度均勻的膜層；
2）、薄膜與（yǔ）基片（piàn）的附著力強。部分高能量的濺射原子產生（shēng）不同程度的注（zhù）入現象，在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴散層；
3）、製備特殊材料（liào）的薄膜（mó），可以（yǐ）使用不同的材料同時濺射製（zhì）備混合膜（mó）、化合（hé）膜，還（hái）可（kě）濺射成（chéng）TiN仿金膜；
4）、膜層純度（dù）高，濺射膜層中不會混入坩鍋加熱（rè）器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔助源，無需加熱直接常溫冷鍍成膜，節能省電，提高產能。