CJ係列磁控濺射真空（kōng）鍍膜機的磁控濺射工作原理，所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟（hōng）擊（jī）物體，從而引起物體表麵原（yuán）子從（cóng）母體中逸出的現象。早在1842年（nián）Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為曲線形，均勻電場和對數電場則分別（bié）用於平麵靶（bǎ）和同軸圓柱靶。電子在電場作用下，加速飛向基片的過（guò）程中與氬原子發生碰撞。若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在（zài）電場作用下，加速飛向陰極（濺射靶）並（bìng）以高（gāo）能量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射。 

廣泛應用於（yú）家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術（shù）品、玩具、車燈反光罩、手（shǒu）機按鍵外殼以及（jí）儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚（zhuān）等表麵裝飾性鍍（dù）膜及工模具的功能塗層，在鍍製超黑膜、純金裝（zhuāng）飾膜、導電膜等領域有優勢。

1）、膜厚可控性和重複性（xìng）好。能夠可靠的鍍製預定（dìng）厚度的薄膜，並且濺射（shè）鍍膜可以在較大的表麵上獲得厚度均勻的膜層；
2）、薄膜與基（jī）片的附著力強。部分高能量的（de）濺射原子（zǐ）產生不同程度的注入現象，在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴散層；
3）、製備特（tè）殊材料的薄膜，可（kě）以使用（yòng）不同的材料同時濺射製備混合膜、化（huà）合（hé）膜，還可濺射（shè）成TiN仿金膜；
4）、膜層純度高，濺射膜層中（zhōng）不會（huì）混入坩鍋加熱器材料的成份（fèn）。
5 )、裝備低溫（wēn）離子（zǐ）輔助（zhù）源，無需加熱直接常溫冷鍍成膜，節能省電，提高產能。