磁控濺射是一種 (PVD) 工藝，是製造半導體、磁盤驅動器、CD 和光學器件的主（zhǔ）要薄（báo）膜沉積（jī）方法。以下是磁控濺射中常見的問題。小編列出了可能的原（yuán）因和相關解決方案供您參考。

● 問題一：薄膜灰黑或暗黑
● 問題二：漆膜表（biǎo）麵暗淡無光澤
● 問題三：薄膜顏色不均勻（yún）
● 問題四：起皺、開裂
● 問題五：薄（báo）膜表麵有水印、指紋（wén）和灰粒

 薄膜灰黑或暗黑 
丨真空度小於0.67Pa；真空度（dù）應提高到0.13-0.4Pa。
丨氬氣純度小於99.9%；氬氣應更（gèng）換為純（chún）度為（wéi） 99.99%。
丨充氣係統漏氣；應檢查充氣（qì）係統以消除漏氣。
丨薄膜未充分固化；薄膜（mó）的固化時間應適當延長。
丨鍍件排出（chū）的氣體量過大（dà）；應進行幹燥和密封。

 漆膜表麵無光澤 
丨薄膜固化不良或變質；應延長薄膜固化時間或更換底漆。
丨磁控濺射時間過長；施（shī）工時（shí）間應適（shì）當縮短。
丨磁控濺射成膜速度太快；磁控濺（jiàn）射電流或電（diàn）壓應適當降低。

 薄膜顏（yán）色不均勻 
丨底漆（qī）噴塗不均；底（dǐ）漆的使用方法有待改進。
丨膜層（céng）太薄；應（yīng）適當提高磁（cí）控濺（jiàn）射速（sù）率或延長磁控（kòng）濺射時（shí）間。
丨夾具設計（jì）不合理；應改進夾具設計（jì）。
丨鍍件幾何形狀過於複雜；鍍件的轉速應適當提高。

 起皺、開裂 
丨（shù）底漆噴得太厚；應控製噴霧的厚度。
丨塗層粘度過高；應適當降低塗料（liào）的粘度（dù）。
丨（shù）蒸發速度過快；蒸發速度應適當減慢。
丨膜層（céng）太厚；濺射時間應適當縮短。
丨電鍍溫度過高；鍍件的加熱時間應適當縮（suō）短。

 薄膜表麵有水印、指（zhǐ）紋和灰粒 
丨鍍件清洗（xǐ）後未充分幹（gàn）燥；應加強鍍（dù）前處理。
丨在鍍件表麵潑（pō）水或唾液；加強文明生產，操作人員戴口罩。
丨（shù）塗底漆後，手（shǒu）接觸鍍件，表麵留下指紋；嚴禁用手觸摸鍍件表麵。
丨有顆粒物，應過（guò）濾或除塵。
丨（shù）靜電除塵失敗或噴塗固化環境（jìng）有顆粒粉（fěn）塵（chén）；應更換除塵器並清潔工（gōng）作環境。


除以上常用材料外，金屬靶（bǎ）材還有鎳、鋁、鉭、鉿、錳、銅、鋅、銦、錫、等，均有在鍍膜中使用。多質靶材如鈦鋁、鉻鋁（lǚ）、鈦鋯、銅錳、鎳鉻、矽鋁、釩錸、鎢鉬（mù）等。

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