磁控濺射技術自誕生以來，得到（dào）了較（jiào）快的發展和較廣的應用，對其他鍍膜方法的（de）發展產生了很（hěn）大的影響。通過大量的實踐，柚子影视:精彩影视作品尽在柚子影视平台真空總結出這種技術的優缺點，如下文所示（shì）。

　　優點：
　　1.沉積速率高，襯底（dǐ）溫升低，對薄膜損傷小；
　　2.對於大（dà）多數（shù）材料，隻要（yào）能製造（zào）出靶材，就可以實現濺射；
　　3.濺射得到的薄膜與基底（dǐ）結合良好；
　　4.濺射（shè）得到的薄膜純度較高，密度好，均勻（yún）性好；
　　5.結果表明，濺射工藝具有良好的重複性，在大麵（miàn）積襯底上可獲得厚度均勻的薄膜；
　　6.可以準確控製塗層厚度，通過（guò）改變參數（shù）來控製薄膜的粒徑；
　　7.不同的金（jīn）屬、合金和氧化物（wù）可以混合，同時濺射在基體上；
　　8.易（yì）於工業化。


　　但是磁控濺射也存在一些問題
　　1.該技術所使用的環形磁場迫使次級電子圍繞（rào）環形磁場（chǎng）跳躍。因此，由環形磁場控製的區域是等（děng）離子體密度較高的區域。在該技術中，我們可（kě）以看到濺（jiàn）射氣體氬在這一區域（yù）發（fā）出強烈的淡（dàn）藍色光芒（máng），形成光（guāng）暈。光暈下的靶是離子轟擊比較嚴重（chóng）的部分，它會濺出（chū）一個圓形的溝槽。環形磁場是電子運動的軌（guǐ）道，環形輝光和溝槽（cáo）生動地表現了這一（yī）點。靶（bǎ）材的濺射槽一（yī）旦穿透靶材，整個靶材就會報廢，靶材（cái）利用率不高，一般低於40%；
　　2.等離子體不穩定；
　　3.由於（yú）基本的磁通量均不能通過（guò）磁性靶，所以在靶麵附近不可能產生外加磁場。

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