最直接的鍍膜控製（zhì）方法（fǎ）是石英（yīng）晶體微量平衡法（fǎ）(QCM)，這種儀器可以直接驅動蒸發源，通過PID控製（zhì）循環（huán）驅動擋板，保持蒸發（fā）速率。隻要將（jiāng）儀器與係（xì）統控製軟件相連接，它就可以控製整個的鍍膜（mó）過程。但是(QCM)的（de）精確度是有限（xiàn）的，部分原因是由（yóu）於它（tā）監控（kòng）的是被鍍膜的質（zhì）量而不是其光學厚度。
    此外雖然QCM在（zài）較低（dī）溫度下非常（cháng）穩定，但溫度較高時，它會變得對溫（wēn）度非常敏感。在長時間的加熱（rè）過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區（qū）域，從而（ér）對（duì）膜層造成（chéng）重大（dà）誤差。
    光學監控是（shì）高精密鍍膜的的（de）首選監（jiān）控方（fāng）式，這是因為它可以更精確地控製膜層厚度(如果運用得當)。精確度的改進源於很多因素,但最根本的原（yuán）因（yīn）是對光（guāng）學厚度的監控（kòng）。
    OPTIMAL SWA-I-05單波長光學監控係統，是采（cǎi）用（yòng）間接測控，結合汪博士開發的先進光學監控軟（ruǎn）件，有效（xiào）提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少終（zhōng）極誤差，提供了反饋或傳輸的選擇模式和大範圍（wéi）的監測波長。特別（bié）適合於各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。

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