一. 鍍層附著性能好 

普通真空鍍膜時，蒸發料粒（lì）子大約隻（zhī）以一個電（diàn）子伏特的（de）能量向工件（jiàn）表麵蒸鍍，在工件表麵與鍍層（céng）之間，形成的界麵擴散深度通（tōng）常（cháng）僅（jǐn）為（wéi）幾百個（gè）埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是說（shuō）比（bǐ）一根頭發絲的百分之一還要小。兩（liǎng）者間可以說幾（jǐ）乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時，蒸發料粒子電離後具有三千到五千電子伏特的動能。如果說（shuō）普通真空鍍膜（mó）的粒（lì）子（zǐ）相當於一個氣喘籲籲的長跑運動員，那麽離子鍍的粒子（zǐ）則好似乘坐了高速火箭的乘客（kè），當其高速轟擊工件（jiàn）時，不但沉積速度（dù）快，而且能夠穿透工件表（biǎo）麵，形成一種注（zhù）入（rù）基體很深的擴散層，離（lí）子鍍的界（jiè）麵擴散深（shēn）度可達四（sì）至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴（kuò）散深度要深（shēn）幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。對離子鍍後的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍（dù）層仍隨基體（tǐ）金屬一（yī）起塑性延伸，無起皮或剝落現象發生。

二.繞鍍能力強

離子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向（xiàng）運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜隻（zhī）能（néng）在直射方向上獲得鍍層優越得多。因此（cǐ），這種方法非常適合於鍍複零件上的（de）內孔、凹槽和窄縫。用普（pǔ）通真空鍍膜隻能（néng）鍍直射表（biǎo）麵，蒸發料粒子尤如攀（pān）登雲梯一樣，隻順梯而上；離子鍍（dù）則能均勻地（dì）繞鍍到零件的背（bèi）麵和內孔中，帶電離子則好（hǎo）比（bǐ）坐上了（le）直（zhí）升（shēng）飛機，能夠沿著（zhe）規定的航線飛抵（dǐ）其活動半徑範圍內的任何地方。

三. 鍍層質量好（hǎo）

離子鍍（dù）的鍍（dù）層組織致密、無針孔、無氣泡、厚度均勻。甚（shèn）至棱麵和凹槽都可均勻（yún）鍍複，不致形成金屬瘤。像螺紋一類的零件也（yě）能鍍複（fù），由於這種工藝方（fāng）法還能修補工件表麵的微小裂紋和（hé）麻點等缺（quē）陷，故可有效（xiào）地改善被鍍零件（jiàn）的表麵質量和物理機械性能。疲勞試（shì）驗表明（míng），如果處理得當（dāng），工（gōng）件疲勞壽命可比鍍（dù）前高百分之二、三十.