氣體的分布狀況對於平板基片鍍膜（mó）來說是極其重要（yào）的，通過機械結構設計，使氣體密度的變化率在濺射沉（chén）積區域內的盡量（liàng）小。

而在區域外，使係統的流導盡量的大（dà），以提高氣體的（de）利用率和抽氣係統的效率。

控製氣（qì）體分布的機（jī）械部件或結構包括布氣係統、真空室的結構、抽氣係統等三個部分。