對於真空鍍膜機設備的分類，到底了解（jiě）多少？
真（zhēn）空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜設備，包括真（zhēn）空離子蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、
MBE分子束（shù）外延鍍膜機和PLD激光（guāng）濺射沉積鍍膜機等很多種。

主要是（shì）分成蒸發（fā）和濺射兩（liǎng）種。
在真空鍍膜設備中需要（yào）鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為（wéi）靶材。
基（jī）片與靶材同（tóng）在真空腔中。
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使（shǐ）表麵組分以原子團或離（lí）子形式被蒸（zhēng）發（fā）出來，並且沉降在（zài）基片表麵，通過成膜（mó）過程（chéng）形成薄膜。

真空（kōng）鍍（dù）膜機對於濺射類鍍膜，可以簡單理解為（wéi）利用電子或高能激光轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或離子形式被濺射出來，
並且最終沉積在基片表麵，經曆成膜過程，最終形成薄（báo）膜。爐體可選擇由不鏽鋼、碳鋼或它們的組合製（zhì）成的（de）雙層水冷結構。

根（gēn）據工藝要求選擇不同規格（gé）及類型鍍膜設備，其類型有電阻蒸（zhēng）發真（zhēn）空鍍膜設備（bèi）、電子束（shù）蒸發真空鍍膜（mó）設備、
磁（cí）控濺射真空鍍（dù）膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空鍍膜設備、空（kōng）心陰極離子鍍和多弧離子（zǐ）鍍等。
夾具運轉形式有自轉、公轉（zhuǎn）及公轉+自轉方式，用戶可根據片尺寸（cùn）及形狀提出相應要（yào）求，轉動（dòng）的速度範圍及（jí）轉（zhuǎn）動精度：普通可調及變頻調速等（děng）。