什麽是PVD 技術 

PVD-物理氣（qì）相沉積：指利用物理過程實現物質轉移（yí），將（jiāng）原子或分子（zǐ）由源轉移到基材表麵上的過程。

它的作用是可以使某些有特殊（shū）性能（強（qiáng）度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴塗在性能較低（dī）的母體上，使得母體具有更好的性（xìng）能。

PVD基本方法：真空蒸鍍、濺鍍（dù） 、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離（lí）子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射（shè）頻離子鍍、直流放電離子鍍）。

PVD 技（jì）術是（shì）目前國際上科技含（hán）量高且被廣泛應用的離子鍍膜技（jì）術（shù），它具有 鍍膜層（céng）致密均勻、附著力強、鍍（dù）性好、沉積速度快、處理溫度低、可鍍材料廣（guǎng）泛等特點.

PVD 本身鍍膜過程（chéng）是高溫狀態下，等離子場下的輝光反應，亦是一個（gè）高淨（jìng）化（huà）處理過程；鍍（dù）層的（de）主要原材料（liào）是以鈦金屬為主，鈦是金屬中最（zuì）與人體皮膚具親和性能的（de），使得PVD 產品本身具備純淨的環保性能。