真空鍍膜（mó）技（jì）術是真空應用技術的一個重（chóng）要分支，它已廣泛地應用於光學、電子學、能源開發，理（lǐ）化儀器、建築機械（xiè）、包裝、民用製（zhì）品、表麵科學以及科學（xué）研究等（děng）領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發（fā）鍍、濺射鍍、離子鍍、束（shù）流沉積鍍以及分子束（shù）外延等。此外還有化（huà）學氣相沉積法。如果從（cóng）真空鍍膜的目的是為了（le）改變物質表麵的物理、化學性能的話，這一技術又是真（zhēn）空表麵處理技術中的重要組成（chéng）部分，其分類如（rú）表（biǎo） 6 所示。現就（jiù）其（qí）幾個主要應用方麵做（zuò）一簡單介紹。

        首先在光學方麵，一塊光學玻璃或石英表麵（miàn）上鍍一（yī）層或幾層（céng）不同物質的薄（báo）膜後，即可成（chéng）為高反射（shè）或無反射（即增透膜）或者作任何預期比例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長的（de）吸（xī）收，而對另一種波長的透射的濾色片。高反射膜從大口（kǒu）徑的天文望遠鏡和各種激光器開始、一直到（dào）新型建築物的大窗鍍膜茉莉，都很需要。增透膜則大量用於照相和各種激光器開始、一直到新型建築物的大窗鍍膜玻璃，都很需要。增透膜則大量用於照相機和電視攝象機的鏡頭（tóu）上。

        在電子學方麵真空鍍膜更占有極為重要的地位（wèi）。各種規（guī）模的繼承電路。包（bāo）括存（cún）貯器、運算（suàn）器、告訴邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護（hù）膜。作為製備（bèi）電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶（dài）、磁盤、半導體（tǐ）激（jī）光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件（ CCD ）也都甬道各種薄膜。

        在顯示器件方麵，錄象磁頭、高密（mì）度錄象帶（dài）以（yǐ）及（jí）平麵顯示裝置的透明導電膜、攝像管光導膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空（kōng）鍍膜法製備。在元件方麵，在真空中蒸發鎳鉻，鉻（gè）或金屬陶瓷可以製造電阻（zǔ），在塑料上蒸發鋁、一（yī）氧化矽、二氧化鈦等可以製造電容器，蒸發硒可以得（dé）到靜電複印機（jī）用的硒鼓、蒸發鈦（tài）酸鋇可以製造磁致伸縮（suō）的起聲元件等等。真空蒸（zhēng）發還可以用於製（zhì）造超導膜和（hé）慣性約束巨變反應用（yòng）的微珠鍍層。此外還可（kě）以對珠寶、鍾表外殼表麵、紡織品金屬花紋、金絲銀絲線等蒸鍍裝飾用薄膜（mó），以及采用濺射鍍或離子鍍對（duì）刀具（jù）、模具等製造超硬膜。近兩年內所興（xìng）起的多弧離子鍍製備鈦金製品，如不鏽鋼薄板、鏡麵板、包柱（zhù）、扶手、高檔床托架、樓梯欄杆等（děng）目前（qián）正在盛行。