本文從係統結構、參數控製和鍍膜方式等綜述了真空卷繞鍍膜技術研究進展。按（àn）結（jié）構可分（fèn）為單室、雙室和多室真空卷繞係統（tǒng），後兩者可解決（jué）開卷放氣問題並分別控製卷（juàn）繞和鍍膜室各自真空度。卷繞張力控製分錐度、間接和直（zhí）接控製模型，錐度控製模型可解決薄膜褶（zhě）皺和（hé）徑向力分布不均的問（wèn）題；間接張力控製（zhì）無需傳感器，可用內置張力控製模塊的矢量（liàng）變頻器（qì）代替；直接張力控製通過張力傳感器（qì）精確測量張力值，但需慣性矩和角（jiǎo）速度等（děng）多種參數。真空（kōng）卷繞鍍膜主要（yào）有（yǒu）真空蒸發（fā）、磁控濺射等（děng）方式，可用（yòng）於製備新型高（gāo）折射率（lǜ）薄膜、石墨烯等納米材料和柔性太陽（yáng）能電池等半導體器（qì）件。針對真空卷繞鍍膜技術研究（jiū）現狀及向（xiàng）產業化過渡存在的問題，最後（hòu）作了簡要分析與展望。

　　真空卷繞鍍膜(卷對卷)是在真空下應用不同方法（fǎ）在柔性基體上實現（xiàn）連續鍍膜的一種技術。它涵蓋真（zhēn）空獲得、機電控製、高精傳動和表麵分析等多方麵內容（róng）。其重點是，在保證鍍膜（mó）質量前提下提（tí）高卷繞速率、控製鍍膜穩定性及實施在線監控。卷對（duì）卷技術成本低、易操作、與柔性基底相（xiàng）容（róng）、生產率高及可連續鍍多層膜等優點（diǎn）。第一台真空蒸發（fā）卷繞（rào）鍍膜機1935年（nián）製成，現可鍍幅寬由500 至2500mm。卷對（duì）卷技術應用由包裝和裝飾（shì）用膜，近年（nián）逐漸擴大至激光防偽膜、導電（diàn）等功能薄膜方麵，是未來柔性電子等行業的主流技術之一。

　　目前，國際前沿是研究不同製備工藝下功（gōng）能薄膜特性並完善複合膜層製備。卷繞鍍膜機有向大型工業化和小型科研化方（fāng）向發展的兩種趨勢（shì），國內蘭州真（zhēn）空（kōng）設備、廣東中環真空設（shè）備等公司多生產大（dà）型工業卷繞設（shè）備， 國外如TW Graphics 和Intellivation 公司等，主要為科研機構提供小型或微型卷繞鍍膜機。

        真空卷繞鍍膜設備分類
　　真空卷對卷設備由抽（chōu）真空（kōng）、卷繞、鍍膜和電氣控製等係統組（zǔ）成。據真空室有無擋板，可分單室、雙（shuāng）室和多室結構。單室的收放卷（juàn）輥和鍍膜輥在同一室（shì）中，結構簡單但開卷時放氣會汙染真空環境。雙室結構將係統用（yòng）擋板隔成卷繞和鍍膜室，卷輥與擋板間隙約1.5mm，避免了類似開卷放氣問（wèn）題。多室常用於製備（bèi）複合（hé）薄膜，在雙室基礎上將相鄰鍍膜區用擋板隔開避免幹擾。如Krebs 等將Skultuna Flexibles AB 的開普頓擋板（bǎn）固定於兩磁控濺射靶間，板（bǎn）兩側塗覆50μm 的（de）銅層（céng）。

　　分隔擋板與真空（kōng）室壁狹縫越小越好。據鍍（dù）膜時輥筒作用分為單主輥和多主輥卷繞鍍膜機。據電機個數，則可分（fèn）為兩電機、三電機和四電機驅動係統。

        總結與（yǔ）展望

　　真空卷繞鍍膜因其大（dà）麵（miàn）積、低成本（běn）、連續性等特（tè）點，比間歇式鍍膜有很大優（yōu）勢，廣受國內外研究者和（hé）企業（yè）關注。當前卷繞鍍膜技術進展較快，解決（jué）了（le）鏤空線、白（bái）條、褶皺等問題，開始用於製（zhì）備石（shí）墨烯、有機太陽能電池和透明（míng）導電薄膜等新型功能介質與（yǔ）器件。故（gù）對製膜過程和成膜質量提出了更高要求，真空機組主泵選擇從大抽速擴散泵發展到無（wú）油超高真空分子泵和低溫泵，開發出了大包角雙冷卻輥鍍膜機以減小薄膜拉伸變形。張力控製多用（yòng）考慮夾感應張力的收卷（juàn）模型和單跨非線性動力（lì）學的放卷模型。

　　目前卷繞鍍膜的精密控製有待提高（gāo），例如轉印石墨烯時，難（nán）以徹（chè）底（dǐ）去除基（jī）底和石墨烯間的熱解膠，且卷繞（rào）速度過快或基底較硬引發的切應力會使石墨烯層形（xíng）成裂縫或孔洞。又如（rú），真空卷繞發製備的有機薄膜表麵缺陷多，載流子遷移率較低，進而嚴重影響其（qí）器件的光電特性。未來應增（zēng）設薄膜應力（lì）等測控單元（yuán），融合CVD、離子鍍、高壓靜電紡絲、真（zhēn）空噴射和原位聚合等成膜技術，為開發新型有（yǒu）機及其無機（jī）複合功（gōng）能薄膜和器件提供保障。

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