真空蒸（zhēng）發（fā）鍍膜法（簡稱真空蒸鍍（dù）法，Vacuum Evaporation) 是指在一定（dìng）的真空條件下，利用（yòng）高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到（dào）一定溫度條件下（xià）， 

使其原子或分子從表麵汽化逸出，形成蒸汽流，並飛行濺射到玻璃基（jī）板表麵凝結形成固態薄膜的方法。

由於真空蒸鍛法的主要物理過程是通過加熱蒸發材料而產生，所以又（yòu）稱熱蒸發（fā）法。蒸發源作為蒸發裝置的關鍵部件，

大多數蒸發材料都要求在1000-2000℃的高溫下（xià）蒸發。真（zhēn）空蒸鍍法按蒸發源的不同（tóng）可分為電阻法、電子束蒸（zhēng）發法、高（gāo）頻感應（yīng）法和激光蒸發法等。