濺射靶材具有高純（chún）度、高密度（dù）、多組元、晶粒（lì）均勻等特點，一般由靶坯和背（bèi）板組成。

靶坯屬於濺射靶材的核心部（bù）分，是高速離子束流轟擊的目標材（cái）料。

靶坯被離子撞擊後，其表麵原子被濺（jiàn）射飛散出（chū）來並沉積於基板上製成電子薄膜。

由於高純度金屬強度（dù）較低（dī），因此濺（jiàn）射靶材需（xū）要在高電壓、高真空的機台環境內完成濺射過（guò）程。

超高純金屬的濺射（shè）靶坯需要與（yǔ）背板通過不同的焊接（jiē）工藝進行接合（hé），背板起到主要（yào）起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好的導電、導熱性能。